ÇİN'DEN ÇİP ÜRETİMİNDE DİKKAT ÇEKEN ADIM: YENİ TEKNOLOJİYLE MALİYETLERİ YÜZDE 90 AZALTMA HEDEFİ

Çin merkezli girişim Prinano, fotonik çiplerin üretiminde geleneksel derin ultraviyole (DUV) litografi sistemlerine ihtiyaç duymadan seri üretim gerçekleştirdiğini duyurdu.

Şirketin açıkladığı yeni yöntem, özellikle Çin'in gelişmiş çip üretim ekipmanlarına yönelik uluslararası kısıtlamalar karşısında alternatif çözümler geliştirme çalışmalarının son örneklerinden biri olarak öne çıktı.

DUV EKİPMANLARI KULLANILMADAN ÜRETİM YAPILDI

Prinano tarafından yapılan açıklamada, Shenzhen Litra Technology ile ortak yürütülen çalışma kapsamında 8 inçlik fotonik çip wafer'larının başarıyla üretildiği belirtildi.

Şirket, üretim sürecinde sektörün standart teknolojileri arasında yer alan DUV litografi sistemlerini kullanmadığını açıkladı. Bu gelişme, özellikle gelişmiş litografi ekipmanlarına erişimde yaşanan kısıtlamalar nedeniyle Çin açısından önemli bir adım olarak görülüyor.

MALİYETLERDE YÜZDE 90'A VARAN DÜŞÜŞ İDDİASI

Prinano, üretimde kendi geliştirdiği PL-AS vakum hava yastıklı nanoimprint litografi sistemini kullandığını duyurdu.

Şirkete göre bu teknoloji, geleneksel DUV tabanlı üretim süreçlerine kıyasla maliyetleri yüzde 90'a kadar azaltabiliyor. Sistem, karmaşık optik ekipmanlar yerine nanometre seviyesindeki desenlerin doğrudan silikon yüzeylere aktarılması prensibiyle çalışıyor.

Bu yaklaşımın hem ekipman maliyetlerini hem de üretim süreçlerindeki bazı giderleri önemli ölçüde düşürebileceği belirtiliyor.

FOTONİK ÇİPLERE ODAKLANIYOR

Yeni teknoloji şu aşamada gelişmiş yapay zeka işlemcileri veya yüksek performanslı mantık çiplerini hedeflemiyor.

Prinano'nun çalışmaları daha çok veri merkezleri, fiber optik haberleşme sistemleri, LiDAR teknolojileri ve çeşitli sensör uygulamalarında kullanılan fotonik çipler üzerinde yoğunlaşıyor.

Uzmanlar, fotonik çiplerin yapısal özellikleri nedeniyle nanoimprint litografi teknolojisine daha uygun olduğunu ve bu nedenle ticari kullanımın ilk olarak bu alanda yaygınlaşabileceğini belirtiyor.

10 NANOMETRENİN ALTINDA YAPILAR ÜRETİLEBİLİYOR

Şirket, geliştirdiği platformun wafer seviyesinde hassas basınç kontrolü, özel baskılama malzemeleri ve 10 nanometrenin altındaki yapıların oluşturulmasını sağlayan üretim süreçlerine sahip olduğunu açıkladı.

2017 yılında kurulan Prinano, 2025 yılında Çin'in ilk yerli yarı iletken nanoimprint litografi sistemini bir müşteriye teslim ettiğini duyurmuştu. Son gelişme ise şirketin laboratuvar aşamasından çıkarak üretim tarafında daha ileri bir noktaya ulaştığını gösteriyor.

TİCARİ BAŞARI İÇİN ZAMAN GEREKİYOR

Buna karşın teknolojinin ticari ölçekte ne kadar başarılı olacağı henüz netlik kazanmış değil.

Prinano, üretim verimliliği, hata oranları, müşteri sevkiyatları ve bağımsız doğrulama sonuçları gibi kritik verileri paylaşmadı. Bu nedenle yöntemin teknik olarak çalıştığı açıklansa da, mevcut yarı iletken üretim teknolojileriyle rekabet edip edemeyeceği konusunda kesin bir değerlendirme yapmak için erken olduğu belirtiliyor.

Son yıllarda ABD öncülüğünde uygulanan ihracat kısıtlamaları nedeniyle Çinli teknoloji şirketleri alternatif üretim yöntemlerine daha fazla yatırım yapmaya başladı.